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4月27日消息,据报道,中国台湾智慧财产及商业法院针对台积电2nm制程机密泄密案作出一审判决。
案件涉及四名台积电前员工、现职员工,以及日本半导体设备商TEL(东京电子)和该公司的一名女主管。
根据法院查明,陈力铭跳槽至TEL后,多次勾结仍在台积电任职的工程师吴秉骏、戈一平与陈韦杰,通过远程联网或借用账号登入台积电数据库,以手机翻拍先进制程机密图档。
陈力铭因坦承犯行并供出共犯、取得台积电谅解,获刑10年,吴秉骏与戈一平分别被判3年和2年。
陈韦杰情节最为严重,其借用不知情同事账号,从台南厂区窃取了台积电从纳米迈向埃米时代的14埃米(1.4nm)最先进制程机密,且未获台积电谅解,遭重判6年。
涉案的TEL公司被判处罚金新台币1.5亿元(约合人民币3256万元),缓刑3年,但须向台积电支付民事赔偿新台币1亿元及罚金新台币5000万元。
此外,TEL高阶主管卢怡尹在案发后删除陈力铭存放于云端的机密图档,涉嫌湮灭证据,被判有期徒刑10月、缓刑3年。
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